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芯茂半导体-GaN氮化镓靶材 ?纯度?密度
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芯茂半导体-GaN氮化镓靶材 ?纯度?密度

高定向的薄膜可以通过溅射形成。?纯度、?密度的GaN靶材,能够通过溅射形成?度定向的薄膜。可以安装在传统的溅射设备上。

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  • 地   址:
    浙江 嘉兴 嘉善县 罗星街道科创中心9号楼
产品特性:薄膜特性服务内容:LED照明、充电器、通信设备服务对象:LED、电源设备、无线电频
金属纯度:5N氧气含有量:<0.1强度:>50
相对密度:>70售后:保障等级:合格
优点:高定向

芯茂半导体-GaN氮化镓靶材 ?纯度?密度详细介绍




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